光刻机性能指标及分类—上海库存芯片回收

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，（库存IC芯片回收）把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机性能指标——库存芯片回收公司小编来为大家娓娓道来：

1.

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

2.

分辨率是对光刻工艺加工可以达到的至细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

3.

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

4.

曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

5.

曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

光刻机分类：

A 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；

B 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；

C 自动：指的是从基板的上载分享，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

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